シリコン材料・デバイス研究会

10/19にシリコン材料・デバイス研究会（SDM10月研究会：プロセス科学と新プロセス技術 ）がオンラインで開催され、修士1年の光田薫未さんが「次世代メモリ用薄膜の統計的解析を行う高精度・広範囲抵抗測定技術」と題して発表を行いました。
光田さんお疲れ様でした!!

Follow me!